總部位於荷蘭的艾司摩爾公司 （ASML）與比利時晶片研究公司 Imec 合作，在荷蘭費爾德霍芬開設了一個 High NA EUV 光刻機的測試實驗室。這個歷時多年打造的實驗室，耗資 3.5 億歐元，將讓晶片製造商龍頭及相關設備和材料供應商，有機會提早接觸到這款獨一無二的設備。
作為全球最大的晶片製造設備供應商，ASML 主宰光刻機領域。在晶片製程中，光刻機扮演關鍵角色，利用光束在晶圓上製造出晶片的迴路。目前，僅有台積電、三星、Intel以及記憶體製造商SK 海力士和三星，具備使用 ASML 現有極紫外光（EUV）機種的能力。
這款新一代 High NA 設備解析度可較現有機種提升高達6 0%，因此有望帶來新一代更小更快的晶片。ASML 重申，預期客戶將在 2025 至 2026 年開始使用這項設備進行商業量產。目前僅出貨過一台測試機給美國英特爾，將用在 2025 年的 14A 製程。
雖然 ASML 已接獲超過 12台 High NA 設備訂單，但公司最大的 EUV 設備客戶台積電表示，在2025 年量產 A16 晶片時暫不需使用 High NA 設備。
＊本文開放合作夥伴轉載，資料來源：《Reuters》首圖來源：《Unsplash》。
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