根據報導，英特爾（Intel）首席執行官 Pat Gelsinger 於8月1日的財報會議上透露，公司正在接收第二台來自 ASML 的「High NA」EUV 曝光機。這些曝光機價值約3.5億歐元（約3.83億美元），將在未來幾個月內安裝完成。英特爾自去年12月起已經開始接收第一台這類設備，並預期這些設備能推動新一代更強大的晶片技術。
ASML 是全球最大的半導體設備供應商，對於具體客戶的購買情況，ASML 選擇不予置評。ASML 高層在7月17日表示，公司已開始向一位未具名客戶運送第二台 High NA 曝光機，並計劃今年僅記錄第一台和可能的第二台設備的收入。ASML 成功推出 High NA 技術對於其未來發展至關重要，但目前仍有一些疑慮關於客戶的實際使用時間。
ASML 擁有來自台積電（TSMC）、三星（Samsung）、英特爾以及記憶體晶片專家 SK 海力士（SK Hynix）和美光（Micron）等主要半導體製造商的超過十台 High NA 設備訂單。英特爾計劃在2027年開始商業化使用這項技術。台積電也將在今年收到一台此類設備，但尚未透露具體的生產使用時間。
此外，ASML 執行長 Christophe Fouquet 於7月17日指出，DRAM 記憶體晶片製造商如三星、SK 海力士或美光，可能會在2025年或2026年開始使用 High NA 技術。
＊本文開放合作夥伴轉載，資料來源：《Reuters》首圖來源：《Unsplash》
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