中國商務部 9 月 8 日表示「不滿」荷蘭政府擴大 ASML 半導體設備的出口管制。荷蘭政府於週五宣布，將對 ASML 的1970i 和1980i 深紫外線（DUV）沉浸式光刻機設備的出口施加更多許可要求，這項決定與美國去年對這些設備施加的單邊出口限制一致。
中國商務部在聲明中表示，美國近年來為維持全球霸權，持續施壓荷蘭和日本等盟國，要求加入針對中國先進晶片和製造設備的出口管制。中國「堅決反對」此策略。
中國商務部進一步指出，荷蘭不應濫用出口管制，應避免採取損害中荷半導體合作的措施，並保護中荷企業的共同利益。此前，美國的游說已有效阻止 ASML 向中國出口最先進的光刻系統，這些設備對中國獲取先進晶片技術至關重要。
荷蘭貿易部長 Reinette Klever 週五解釋，此決定是「為了我們的安全」。
＊本文開放合作夥伴轉載，資料來源：《Reuters》首圖來源：《Unsplash》
