根據知情人士透露，日本官方將和美國晶片製造商 Intel 合作，在日本當地建立先進半導體製造與技術研發中心，同時也會為研發中心導入極紫外光微影技術（EUV）設備，並且對外開放共享使用，提升日本在晶片製造設備和材料行業的專業知識及能力。
外媒指出，這座全新的先進半導體製造與技術研發中心，將由日本經濟產業省旗下的產業技術綜合研究所（AIST）負責營運，至於 Intel 的角色則是提供 EUV 設備的操作指導，以及供應晶片製造相關技術的專業知識。
這座即將於日本新建的晶片研發中心，預計還需要 3 到 5 年才能施工完畢，由於導入了 EUV 設備，所以日本當地的半導體製造和設備材料公司，將可以透過支付一定費用的方式，使用研發中心內設置的 EUV 機台，對旗下產品進行測試與試作。
雖然還沒有具體數字，但外媒指出這座由 Intel 技術指導的晶片研發中心，總投資額預計將可達數億美元以上；未來晶片研發中心落成之後，預期也將成為日本第一個由不同產業參與者，允許共享使用 EUV 設備的全新基地。
中美貿易戰對日本半導體的影響
目前日本許多半導體領域公司，基本上都使用了由海外研究機構提供，例如比利時 IMEC 的 EUV 設備開發產品。
問題在於，隨著中美貿易戰持續加劇，美國政府加強了對中國出口 EUV 相關設備和材料的管制，這使得那些在國外操作 EUV 機台並取得研究數據，下一步想要將資料帶回日本境內的企業而言，造成了極為重大的影響。
藉由日本官方機構與 Intel 之間的合作，未來上述問題或許可以得到有效緩解；然而除了學術單位之外，旨在量產先進半導體的日本晶片製造商 Rapidus，亦規劃於今年 12 月引進 EUV 機台設備，並且於日後投入產品製造。
合作 Intel 鞏固半導體供應鏈地位
荷蘭設備商艾司摩爾（ASML）幾乎是 EUV 曝光機市場的唯一龍頭，但尖端晶片生產擁有超過 600 道製程，其相關設備與材料的供應、研發，事實上也至關重要。
綜觀當前的日本半導體供應鏈，雷泰光電（Lasertec）於 EUV 檢測設備市場佔有近 100% 的份額；而以石油化學為基礎，並拓展至半導體、光電材料、生化科技等產業領域的光阻劑大廠 JSR，則在製造晶片電路所需的感光材料方面擁有優勢。
外媒指出，未來這些日本廠商都將可以透過新的晶片研發中心，加強 Intel 之間的供應鏈合作關係，鞏固日本在半導體領域的關鍵地位。
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＊本文開放合作夥伴轉載，資料來源：《Nikkei Asia》、《Tom’s Hardware》。首圖來源：Intel
